株式会社エンハンストマテリアル:薄膜素材の製造、販売 
株式会社エンハンストマテリアル HOME
ホーム 業務案内 製品情報 会社案内

株式会社エンハンストマテリアル 業務案内


 薄膜材料の製造販売
 株式会社エンハンストマテリアル
 〒135-0033
 東京都江東区深川1-3-11
 パークフロントビル5F
 MAIL:tokyo@emc-h.com

業務内容


・スパッタリングターゲット
・Cr ターゲット


取り扱い品目


クロムターゲット、モリブデン/タングステンターゲット、ニオブ/タンタルターゲット、貴金属ターゲットなど


クロムターゲット


クロムターゲットは、薄膜の密着性、膜の作りやすさ等から、フラットパネルディスプレイ、記録メディア、ハードコーティング等、幅広い分野で使用されております。弊社では、高純度電解金属クロム原料から最終ボンディング、ターゲット化まで一貫した管理体制のもと 各種用途に対応しております。 また、マスク用超高純度ターゲット、および円筒ターゲットなどの特殊形状へのご依頼にも対応可能です。

不純物レベル(分析例、単位;ppm)
 
Fe
Al
Ni
Cu
Si
C
O
N
S
4Nグレード

100

20
10
20
20
80
100
50
20
3N5グレード
250
30
40
30
50
100
200
50
20
3Nグレード
500
70
100
40
100
200
350
100
30


モリブデン/タングステンターゲット


高純度モリブデン/タングステン原料から最終ボンディング、ターゲット化まで一貫した管理体制のもと、安定供給が可能です。

不純物レベル(分析例、単位;ppm)
 
Fe
Al
Ni
Si
C
O
N
Mo (3N5)

32

10
5
10
10
10
10
W (3N5)
20
10
20
10
10
70
20

ニオブ/タンタルターゲット


高純度ニオブ/タンタル原料から最終ボンディング、ターゲット化まで一貫した管理体制のもと、安定供給が可能です。

不純物レベル(分析例、単位;ppm)
 
Ta
Fe
W
Mo
Si
C
O
N
Nb (3N)

550

40
10
10
30
90
60
30
 
No
Fe
W
Mo
Si
C
O
N
Ta (4N)

6

<0.1
3
1
<0.1
13
65
20


貴金属ターゲット


高度なリサイクル技術を駆使し、原料精製からボンディング、ターゲット化、リサイクルに至るまでを一貫して対応致します。

不純物レベル(分析例、単位;ppm)
 
Fe
Ni
Cu
Bi
Zn
Pb
Ag (4N)

<20

<10
<60
<30
<10
<10
   

このページのトップへ
Copyright c Enhanced Material Co. All Rights Resaerved.